紫外光清洗的工作原理

　　二、光清洗的特點： 
　　1、可在空氣中進(jìn)行并且在清洗后不必進(jìn)行干燥。 
　　2、可徹底清除物體表面的碳和有機(jī)污染物。
　　3、無溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問題。
　　4、保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。
　　5、產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度一致。
　　6、由于光清洗是通過光敏、氧化反應(yīng)去除物體表面的碳和有機(jī)化合物，所以容易發(fā)生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對表面污垢清洗、不適對污垢量較多，無機(jī)類污垢清洗。

　　三、光清洗的技術(shù)應(yīng)用范圍：
　　主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法最為合適。
　　主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。
　　可以去除污垢：有機(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。
　　此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(zhì)（紫外光表面質(zhì)變）的特點，目前在液晶顯示器STN的生產(chǎn)過程中，主要是用在膜處理技術(shù)上，對于改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層，TOP涂層與PI涂層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產(chǎn)品，用于納米技術(shù)研究，產(chǎn)品經(jīng)此UV光照射發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使產(chǎn)品表面性質(zhì)改變。STN-LCD、彩色濾光片及OLED的制作過程中，有些制程設(shè)備相當(dāng)雷同，差別在于制造工藝要求的不同。隨著線路的精細(xì)化及產(chǎn)品的彩色比，LCD產(chǎn)業(yè)對制造工藝的要求也不斷地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有設(shè)備能力不斷地精進(jìn)，才能提高生產(chǎn)的質(zhì)量與效率。